Toegepaste materialen bij ionenimplantatie

Ionenstraaltechniek (ion beam method) is een depositietechniek die onder te verdelen is in ionenimplantatie (ion implantation) en ionenstraalmenging (ion beam mixing).

Bij ionenimplantatie worden in vacum (10 tot de min-tweede macht tot 10 tot de min-vierde macht mm Hg) versnelde ionen in kristallijne of amorfe stoffen ingebouwd. Dit proces kan met zowel lage (KeV) als hoge (MeV) energie plaatsvinden. De inbouw leidt tot een goed gedefinieerd concentratieprofiel. Bij ionenstraalmenging wordt een dunne film van een bepaald materiaal (aangebracht met behulp van bv. opdampen) door middel van een ionenbombardement gemengd met het substraatmateriaal.

In de tabel is een lijst van gemplanteerde ionen gegeven die in verschillende substraatmaterialen zijn ingebouwd.